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实验室清洗工作台
实验室工作台主要用于半导体、LED、综合实验室等领域。设备名称:实验室清洗工作台选配模块:层流净化系统、DI在线加热系统、鹅颈水龙头、插座、照明系统等控制模式:手动/半自动可定制各类多功能槽体可根据工艺要求选择定制 地址:北京经济开发区文化院西路八号院 ...
废液回收系统
废液回收系统主要用于半导体、LED、太阳能光伏、实验室等领域各种化学药液的回收。设备名称:废液回收系统回收化学液:各类酸、碱、有机溶剂等选配模块:移液系统控制模式:自动可配置200L、1000L化学品储液桶管路采用双套管形式,保护输液管路的安全 地址:北京经济...
集中供液系统(CDS)
集中供液系统(CDS)主要用于半导体、LED、太阳能光伏、实验室等领域各种化学药液的供给。设备名称:集中供液系统(CDS)供应化学液:HF/HNO3/H2SO4/HCl/KOH/H2O2/NH4OH等选配模块:过滤系统、移液系统控制模式:自动可配置200L、1000L化学品...
片盒/掩膜版清洗机
片盒/掩模版清洗机主要应用于半导体抛光晶片片盒及掩模版进行清洗。设备名称:片盒/掩膜版清洗机工艺流程:上料→SC1→QDR→氮气烘干→下料选配模块:超(兆)声系统、废液回收系统控制模式:手动/全自动传输系统:机械臂(可选)可根据工艺要求选择定制 地址:北京...
全自动高温磷酸清洗机
全自动高温磷酸清洗机主要用于雷射正切之后,去除焦碳的必备制程设备;另外进行表面粗化、LBR及PSS作业,切中各LED晶粒厂欲提升产品亮度的需求。设备名称:全自动高温磷酸清洗机应用对象:蓝宝石晶片晶片尺寸:2"~8"工艺流程:上料→预热→刻蚀→降温→QDR→下料选...
全自动SPM清洗机
全自动SPM清洗机主要用于LED芯片制造过程中晶圆表面有机颗粒和部分金属颗粒污染的自动清洗工艺。设备名称全自动SPM清洗机应用对象芯片应用规格2“ ~8”。药液种类ITO溶液、511溶液、稀HCl溶液选配模块自动烘干系统、尾气Scrubber系统传输系统机械臂 地址:...
全自动去胶清洗机
全自动去胶清洗机主要用于LED芯片制造过程中各蚀刻工序后自动去胶工艺。设备名称全自动去胶清洗机应用对象蓝宝石晶片、砷化镓晶片、碳化硅晶片应用规格2“ ~8”。工艺选配模块腐蚀液恒温系统、 腐蚀液循环过滤系统、超(兆)声系统、自动烘干系统、消防系统传输系统机械臂控...
LED外延片清洗/刻蚀清洗机
用于LED蓝宝石图形衬底的清洗腐蚀工艺。设备名称:LED外延片清洗/刻蚀清洗机主要配置:QDR清洗工位氮气吹干 去离子水喷淋 化学药液循环过滤系统温度自动控制自动供酸系统等  地址:北京经济开发区文化院西路八号院 31 号楼 5 层 612 室 网址...
石英管清洗机
石英管清洗设备主要用于对太阳能硅片扩散炉用石英管的清洗。设备名称:石英管清洗机工艺流程:上料→酸洗→水洗→下料设备特点:酸槽人工注入及配比,排放采用按钮控制气动阀底部排放;水洗槽程序控制注入,排放采用按钮控制气动阀底部排放;触摸屏可视操作人机界面,PLC控...
金属腐蚀机
金属腐蚀机主要应用于MEMS行业的各种基片的铝、铜、钛、镍、铬等腐蚀清洗工艺。设备名称金属腐蚀机应用对象硅晶片、蓝宝石衬底、砷化镓衬底、碳化硅晶片、石英晶片等。应用规格2“ ~8”。工艺选配模块刻蚀液在线加热恒温系统、刻蚀液循环过滤系统、晶片旋转系统、电阻率监...
有机清洗机
有机清洗机主要应用于MEMS行业的各种基片有机去光阻、剥离、ACE、ICP、去胶等工艺。设备名称有机清洗机应用对象硅晶片、蓝宝石衬底、砷化镓衬底、锗晶片、碳化硅晶片、磷化铟晶片、石英晶片等。应用规格2“ ~8”。工艺选配模块刻蚀液恒温系统、刻蚀液循环过滤系统、...
超声(兆声)清洗机
超声(兆声)清洗机主要应用于MEMS行业的超声(兆声)去胶、去蜡、精密清洗等工艺。设备名称:超声(兆声)清洗机应用对象:硅晶片、蓝宝石衬底、砷化镓衬底、锗晶片、碳化硅晶片、磷化铟晶片、石英晶片等。应用规格:2"~8"工艺选配模块:刻蚀液恒温系统、刻蚀液循环过滤系...
清洗/刻蚀清洗机
清洗刻蚀清洗机主要应用于半导体集成电路、MEMS等行业的腐蚀清洗。设备名称清洗/刻蚀清洗机应用对象硅晶片、蓝宝石衬底、碳化硅晶片、石英晶片、各种金属镀层基片等。应用规格2“ ~8”。应用工艺光刻显影、硅刻蚀、二氧化硅刻蚀、氮化硅刻蚀、金属层腐蚀、有机清洗等。工艺...
半导体刷洗设备
刷洗设备主要应用于半导体材料晶圆表面抛光后的清洗,采用PVA旋转刷洗以去除晶圆片表面颗粒和沾污,刷洗后晶圆0.5um颗粒数去除率>=95%。设备名称刷洗设备应用对象晶片应用规格2“ ~8”。工艺选配模块双面水刀系统、双面刷洗系统、风干系统、消防系统等。 地址:北京...
半导体RCA清洗机
RCA清洗机主要应用于半导体材料晶圆切片后的最终清洗及干燥。设备名称RCA清洗机应用对象晶圆片应用规格2“ ~8”工艺选配模块刻蚀液在线恒温(加热)系统、DIW在线加热系统、刻蚀液循环过滤系统、超声(兆声)系统、电阻率监测系统、氮气鼓泡系统、刻蚀液自动供液系统...
JPXYJ系列晶片显影机
JPKYJ系列显影机主要应用于半导体集成电路、半导体材料、LED、MEMS等行业的显影腐蚀清洗。设备名称:JPXYJ系列晶片显影机应用对象:硅晶片、蓝宝石衬底、砷化镓衬底、石英晶片等。应用规格:2"~8"应用工艺:光刻显影工艺选配模块:显影液恒温系统、显影液循环...
YJQXJ系列有机清洗机
JPXYJ系列显影机主要应用于半导体集成电路、半导体材料、LED、MEMS等行业的去胶、去蜡清洗工艺。设备名称:YJQXJ系列有机清洗机应用对象:硅晶片、蓝宝石衬底、砷化镓衬底、磷化铟晶片、碲锌镉晶片等。应用规格:2"~12"有机溶剂:丙酮、乙醇、乙醚、二甲苯、...
RCA清洗机
JPXYJ系列显影机主要应用于半导体集成电路、半导体材料、LED、MEMS等行业的去胶、去蜡清洗工艺。设备名称:RCA清洗机应用对象:硅晶片等。应用规格:2"~12"工艺选配模块:刻蚀液在线恒温(加热)系统、DIW在线加热系统、刻蚀液循环过滤系统、超声(兆声)系...
JPKSJ系列晶片刻蚀机
JPKSJ系列刻蚀机主要应用于半导体集成电路、半导体材料、LED等行业的腐蚀清洗。设备名称:JPKSJ系列晶片清洗机应用对象:硅晶片、蓝宝石衬底、砷化镓衬底、锗晶片、碳化硅晶片、磷化铟晶片、石英晶片等。应用规格:2"~12"应用工艺:光刻显影、硅刻蚀、二氧化硅刻...
BOE清洗机
BOE清洗机主要应用于半导体集成电路、半导体材料、LED、MEMS等行业的化学腐蚀清洗工艺。设备名称:BOE清洗机应用对象:硅晶片、蓝宝石衬底、砷化镓衬底、锗晶片、碳化硅晶片、磷化铟晶片、石英晶片等。应用规格:2"~12"工艺选配模块:机械抛动系统、超声(兆声)...
JPQXJ系列晶片清洗机
JPQXJ系列清洗机采用模块化标准清洗工艺,主要应用于半导体集成电路、半导体材料、LED、OLED、微机电系统MEMS等行业的腐蚀清洗,其作用是去除晶片表面的有机物(包括光刻胶)、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物。设备名称JPQXJ...
单片式清洗机
单片式清洗机设备名称:单片式清洗机设备特带你:  全塑结构(NPP或PTFE)同时兼容各种规格卡盘清洗腐蚀过程可视可存储多套程序化学药液可循环加热伺服电机转速1~6000rpm(10000rpm可选)加速/减速:1~3000rpm/sec喷头可调废液回收安全报...
IPA干燥设备
IPA干燥设备主要应用于半导体集成电路、半导体材料、LED、MEMS、光电装置、光掩膜、玻璃衬底等行业的晶片异丙醇和氮气干燥工艺工艺。设备名称:IPA干燥设备应用对象:硅晶片、碳化硅晶片、氮化镓晶片、砷化镓衬底、蓝宝石衬底、石英晶片等。应用规格:2"~12"设备...
SPM清洗机
SPM清洗机主要应用于半导体材料晶圆表面有机颗粒和部分金属颗粒污染的自动清洗工艺。设备名称:SPM清洗机应用对象:芯片应用规格:2"~8"药液种类:ITO溶解、511溶液、稀HCI溶液工艺选配模块:自动烘干系统、尾气Scrunner系统传输系统:机械臂 地址:北京经济...
半导体超声(兆声)清洗机
超声(兆声)清洗机主要应用于半导体材料行业的晶片、光掩膜版的腐蚀清洗工艺。设备名称超声(兆声)清洗机应用对象晶片、掩模版等。应用规格2“ ~12”。工艺选配模块刻蚀液恒温系统、刻蚀液循环过滤系统、超声(兆声)系统、电阻率监测系统、氮气鼓泡系统、自动干燥系统等。&...
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