片盒/掩模版清洗机主要应用于半导体抛光晶片片盒及掩模版进行清洗。


设备名称:

片盒/掩膜版清洗机

工艺流程:

上料→SC1→QDR→氮气烘干→下料

选配模块:

超(兆)声系统、废液回收系统

控制模式:

手动/全自动

传输系统:

机械臂(可选)

可根据工艺要求选择定制



 

地址:北京经济开发区文化院西路八号院 31 号楼 5 层 612 室 

网址:http:// www.windae.cn

电话:010-5635 5726